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雙盤研磨機(jī)對工件拋光打磨的過程

來源:http://m.kiwipreneurs.com/news948090.html發(fā)布時間:2023/6/10 16:23:00

  雙盤研磨機(jī)是如何對工件進(jìn)行打磨拋光的呢?

  1、利用涂層或壓嵌在研究工具上的磨料顆粒,通過研究工具和工件在一定壓力下的相對運(yùn)動,對加工表面進(jìn)行精加工(見切割加工)、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料。加工表面形狀為平面、內(nèi)外圓柱面和圓錐面、凸面、凹球面、螺紋、齒面等表面。加工精度可達(dá)IT5~表面粗糙度可達(dá)R0.63~0.01微米。

  2、研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研三類。①濕研磨:又稱敷砂研磨,將液體研磨劑連續(xù)加注或涂抹在研磨表面,磨料在工件和研磨工具之間不斷滑動和滾動,形成切割運(yùn)動。②濕磨一般用于粗磨,所用微磨料粒度大于W7。③干研:又稱嵌砂研磨,將磨料均勻壓入研磨工具表面,研磨時只需在研磨工具表面涂抹少量硬脂酸混合脂等輔助材料。干磨常用于精磨,微磨料粒度小于W7。④半干研究:類似于濕研究,研磨液為糊狀研磨膏。研磨可以手動操作,也可以在平面研磨機(jī)上進(jìn)行。研磨前,工件必須采用其他加工方法獲得較高的預(yù)加工精度,留下的研磨余量一般為5~30微米。


  3、研究工具是工件研磨成型的工具,也是研磨液的載體。硬度應(yīng)低于工件的硬度,并具有一定的耐磨性。

  4、正確處理平面研磨機(jī)的運(yùn)動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中,一般要求:①工件相對于研具的運(yùn)動,要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長度相近;②工件的運(yùn)動軌跡均勻地覆蓋整個研具表面,有利于研具的均勻磨損;③為保證工件運(yùn)動平穩(wěn),運(yùn)動軌跡曲率變化較??;④盡量避免過早重復(fù)工件上的任何運(yùn)動軌跡。為了減少切削熱,研磨通常在低壓和低速條件下進(jìn)行。粗研壓力不超過0.3兆帕,精研壓力一般為0.03~0.05兆帕。粗研速度一般為2000?!?20米/分,精研速度一般為10米~30米/分。

  5、相互配合的工件通常采用研究方法。研究前,兩個工件需要單件研磨,然后在兩個工件的配合表面之間加入研磨液。

  綜上所述是雙盤研磨機(jī)廠家大家分享的知識,希望可以幫助到您。

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